本文標題："CCD光電測量多功能顯微鏡和技術(shù)測量圖像調整"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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CCD光電測量多功能顯微鏡和技術(shù)測量圖像調整
測量圖像的調整與處理
由于光學(xué)系統、電路和CCD本身造成的圖像畸變，除了進(jìn)行
硬件調整以外，必要時(shí)對軟件也要進(jìn)行校正處理。為提高成像質(zhì)
量，還可從軟件上采取過(guò)濾噪聲、邊緣識別和偽彩色處理等技術(shù)。
人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò )方法是較好的一種處理方法。
CCD光電測量設備和技術(shù)的發(fā)展
以往測量多用線(xiàn)陣CCD器件。近年來(lái)，隨著(zhù)光電測量技術(shù)
與CCD本身技術(shù)的發(fā)展，面陣CCD的測量精度等均得到了明顯提高。
例如，目前像元中心距小于7 微米的面陣CCD器件已經(jīng)比較常見(jiàn)，
價(jià)格也相對可以接受。利用面陣CCD直接完成二維圖像的檢測比用
線(xiàn)陣CCD加上機械運動(dòng)的合成來(lái)完成更方便、快捷，可能達到的精
度會(huì )更高。
圖像采集卡的存儲容量和運算速度等性能也在逐步提高，
更能適合動(dòng)態(tài)測量、大量數據處理和實(shí)時(shí)測量等要求。
微結構件幾何尺寸測量示例
平面幾何尺寸測量原理
微型零件在Z，Y平面的幾何尺寸測量通?？梢圆捎蔑@微系
統一CCD一圖像采集一微機處理的方法。
光學(xué)系統由反射照明、透射照明、顯微成像系統、自動(dòng)聚焦
和干涉部分等五部分組成。被測零件放在顯微工作臺上，經(jīng)過(guò)顯微
物鏡和輔助物鏡成像于CCD攝像機的靶面上，被放大的微細圖形
經(jīng)CCD光電轉換后成為具有不同灰度的視頻信號，再由圖像采集
后將整幅圖像信號送入微機內存，采用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò )技術(shù)提純圖像后，
就在監視器屏幕上顯示出被測零件的形狀。
被測零件成形在攝像靶上后，被分離成具有不同灰度的像素
信息，構成待測圖形的再顯函數V(x，j，)
縱向幾何尺寸測量原理
測量縱向微尺寸，采用光干涉原理。
光學(xué)系統類(lèi)似于一個(gè)邁克爾遜干涉儀。來(lái)自反射照明系統
的光束入射在分光鏡上，光束被分成測量光束和參考光束。反射測
量光束經(jīng)測量顯微物鏡和被測件返回；透射參考光束經(jīng)參考顯微鏡
組和參考反射鏡反回。兩光束所形成的干涉圖形被攝像機接收進(jìn)行
測量。當被測件存在高度差z時(shí)，原來(lái)形成的互相平行的等距條紋
產(chǎn)生錯位，通過(guò)測量錯位量，根據下式可求出縱向尺寸大小
以上測量的是條紋的小數部分，為確定條紋的整數部分，用0
級干涉條紋作為測量基點(diǎn)。
用此方法測量的微機械三維幾何尺寸結果表明：z，Y方向
幾何尺寸重復精度為土0．005μm；z方向幾何尺寸在對比度K>0．8
時(shí)，測量精度為5 nm。
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