本文標題："顯微鏡分析固體材料表面的顯微結構與化學(xué)成分"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
人瀏覽過(guò)-----時(shí)間：2013-4-23 17:35:15
隨著(zhù)微電子與奈米科技的發(fā)展，材料的結構尺寸不斷地趨于淺薄細微，使得其表面與介面特性的影響度
相對地大幅提高。因此精確量測及分析奈米結構的表面和物體介面的物理化學(xué)特性，
是加速此研究領(lǐng)域發(fā)展極為重要的工作。X 光光電子能譜術(shù)(X-ray PhotoelectronSpectroscopy, XPS,
或稱(chēng)為化學(xué)分析電子能譜術(shù)，Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)為
分析固體材料表面的電子結構與化學(xué)成分之重要方法。它除了有很高的表面靈敏度以及甚佳的化學(xué)分析能力，光
子輻射線(xiàn)對于物質(zhì)的破壞性較低且電荷的累積效應也較輕微，因此被廣泛地應用于金屬，半導體，非導體以及
有機材料的研究。XPS 之分析功能是藉著(zhù)各化合物不同化學(xué)結合狀態(tài)產(chǎn)生之位移
(Chemical state or bonding shift) 來(lái)測量的。一般的 ESCA 分析儀器因 X 光光源強度不足，
難以做細微的局部化學(xué)分析，在目前商業(yè)產(chǎn)品中有改良式電子透鏡的 ESCA 偵測系統，但空間解析度
仍難超越 3 微米左右，其區域解析功能甚為有限。
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