本文標題:"晶粒結構組成結構分析用圖像顯微鏡-金屬的滲層晶粒"
發(fā)布者:yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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晶粒結構組成結構分析用圖像顯微鏡-金屬的滲層晶粒
加熱速度對1100℃時(shí)形成的滲硅層組織的影響有其自
身的特點(diǎn)。在所研究過(guò)的保溫時(shí)間范圍內,優(yōu)先保持較細晶
粒底層晶粒尺寸(3000℃/s}。這可能是由于在高溫下原始組
織愈細,滲層晶粒的再結品和合并成長(cháng)愈強烈的緣故。
滲硅層晶粒的優(yōu)先增長(cháng)方向,取決于電加熱滲硅規范。對
于低K滲硅工藝,柱狀晶粒結構的特征較明顯。大半是垂直于
滲硅表面的定向晶粒。在高溫滲硅時(shí),等軸晶粒比較多,這些
等軸晶粒在平行于試樣表面的方向上可能具有較大的尺寸。
由于滲硅層的組織在很大程度上取決于底層組織,應該
同時(shí)研究一下在不同加熱速度下,奧氏體晶粒和滲層的增長(cháng).
動(dòng)力學(xué)。
當在很小的速度下進(jìn)行反應時(shí),在薄的保護膜中,一般看
到原始金屬的滲層晶粒在方向上類(lèi)似, 表面膜愈薄,這.
種類(lèi)似性就愈大。在厚的氧化皮中,也看到了優(yōu)先的晶粒取二
向性。在冷軋鐵板上,氧化皮晶體正好和鐵的鐵素體晶粒的
尺寸、形狀和位置相當
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