本文標題："TEM電子顯微鏡試樣的測量面積很小-斷口定量分析"
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TEM電子顯微鏡試樣的測量面積很小-斷口定量分析
TEM試樣的測量面積很小，取樣的代表性是需要考慮的一個(gè)
問(wèn)題，應當盡可能用低的放大倍數，并在許多部位上隨機選
擇測量區。
SEM試樣的放大倍數范圍較寬，其制樣方法和光學(xué)顯微鏡一
樣，有時(shí)為了增加圖像襯度而寧愿把樣品浸蝕得深 一些，
但是深浸蝕將增加測量誤差，如增加第二相的表觀(guān)尺寸、體積
分率以及第二相粒子的數量而減小它們之間的間距，其實(shí)
，對較新型的儀器為需要浸蝕深，在高倍觀(guān)察時(shí)，淺浸蝕可以
得到最好的精度，用SEM方法進(jìn)行定量測量時(shí)，應當盡量避免
樣品的傾斜，因為那會(huì )使分析復雜化。
斷口定量分析
大多數斷口表面不是平面，光學(xué)顯微鏡觀(guān)察有很大局限性，
現時(shí)主要用TEM復型和SEM觀(guān)察與分析斷口。
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