本文標題："表面形貌量測在半導體及光學(xué)元件測量工具顯微鏡"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
人瀏覽過(guò)-----時(shí)間：2013-3-21 5:59:52
表面形貌量測在半導體及光學(xué)元件測量工具顯微鏡
表面形貌量測在半導體及光學(xué)元件制造上是一項重要的技術(shù)。光學(xué)干涉量測以非接觸、全場(chǎng)性、
速度快與高精密等優(yōu)勢，大量應用于高科技產(chǎn)品表面形貌的量測。然而運用相位移技術(shù)時(shí)，
由于相移機構的移動(dòng)，取像時(shí)間較長(cháng)，受到環(huán)境振動(dòng)或空氣擾動(dòng)的影響，容易產(chǎn)生較大誤差，亦不適用于生產(chǎn)線(xiàn)上的檢測。
瞬時(shí)（或同步）擷取不同相位移干涉條紋圖像之量測系統。此系統利用偏光相位移干涉原理，透過(guò)一四影像合併鏡組，
運用單一CCD同時(shí)擷取不同相移之干涉條紋，經(jīng)由灰階校正及數位對正各影像之位查，可由相位移法以及相位展開(kāi)求得相位值，
轉換得到待測物的表面形貌。此系統經(jīng)以平面鏡及晶圓進(jìn)行實(shí)測，以驗證及探討此量測系統之準確性、誤差與穩定性。
此系統之研發(fā)可以減除外在環(huán)境振動(dòng)與量測時(shí)間過(guò)長(cháng)所造成的影響，亟具實(shí)際運用的價(jià)值。
后一篇文章：掃描式電子顯微鏡觀(guān)察液晶玻璃顆粒 »
前一篇文章：« 橢圓偏光儀的原理反射光對于入射光偏極-光學(xué)特性
tags:技術(shù),金相顯微鏡,上海精密儀器,
表面形貌量測在半導體及光學(xué)元件測量工具顯微鏡,金相顯微鏡現貨供應
本頁(yè)地址：/gxnews/605.html轉載注明
本站地址：/
http://www.xianweijing.org/