本文標題:"測量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差原因-工具顯微鏡"
發(fā)布者:yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
人瀏覽過(guò)-----時(shí)間:2013-3-3 23:8:37
制作元件和測量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差原因-工具顯微鏡
在活性離子蝕刻方面繞射式光學(xué)元件外型的準確度會(huì )直接影響
元件的繞射效率的高低。
量測部分的結果相互比較有了 10%的誤差,因此我們將探討出在制作元
件和測量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差所在,其主要的誤差有下列幾
種:
(一)對準的誤差--由于我們在制作八階微透鏡,需要經(jīng)過(guò) 3 次對
準的動(dòng)作,雖然設計了大小不同的對準記號,但因為曝光機上的物
鏡放大倍率和焦深不足,使得在對準時(shí)無(wú)法同時(shí)看清楚光罩上和基
板上的圖案﹔而且也受限于個(gè)人的技術(shù)問(wèn)題及眼睛的靈敏度等問(wèn)題,都會(huì )造成對準上的誤差。
(二)曝光顯影的誤差--將光罩上的圖案轉到基板上時(shí),曝光時(shí)間和顯影時(shí)間均會(huì )影響元件的制作。
如果曝光及顯影的條件過(guò)量或者不足,都會(huì )影響到光阻所形成的線(xiàn)寬和圖案。
(三)蝕刻的誤差--在蝕刻過(guò)程中,蝕刻腔體內氣壓的穩定度、氣
體流量的穩定度、或是無(wú)線(xiàn)電頻率之交流電功率的震盪起伏以及基
板與光阻的蝕刻速率比的穩定度等條件,都會(huì )影響到元件的品質(zhì)
后一篇文章:SEM電子顯微鏡可以放大倍率到達 10 萬(wàn)倍放大率 »
前一篇文章:« 使用金相顯微鏡觀(guān)察焊點(diǎn)麻田散鐵顯微結構
tags:技術(shù),實(shí)驗,金相顯微鏡,上海精密儀器,
測量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差原因-工具顯微鏡,金相顯微鏡現貨供應
本頁(yè)地址:/gxnews/567.html轉載注明
本站地址:/
http://www.xianweijing.org/