本文標題："石墨檢測顯微鏡-光學(xué)儀器小常識"
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石墨檢測顯微鏡-光學(xué)儀器小常識
以顯微拉曼光譜儀研究單層、雙層及多層(小于10 層)石墨烯的氫化反應。
氫化石墨烯，亦被稱(chēng)為石墨烷，是由石墨烯經(jīng)由氫化反應轉變而成，
為一具有能隙之新材料。我們以機械剝離法制備石墨烯，并使用射頻氫氣電漿使石
墨烯進(jìn)行氫化反應，再觀(guān)察氫化反應前后石墨烯拉曼光譜之變化。
經(jīng)過(guò)氫氣電漿處理，石墨烯之拉曼光譜除了原有的特征峰值
(G peak 及2Dpeak)，還會(huì )出現晶格缺陷所導致的D peak，
我們認為可還原的D peak 與氫化反應有關(guān)，故我們以可還原的D peak 強度判斷氫化反應的程度，
D peak 與氫化反應的關(guān)系我們將于論文中說(shuō)明。我們發(fā)現除了單層石墨烯可被氫化之外，
雙層石墨烯，甚至多層石墨烯(小于10 層)亦可被氫化，層數不同的石墨烯其氫化條件
并不相同，層數較少的石墨烯較容易被氫化。
我們以改變氫氣電漿處理時(shí)間作為氫化條件的改變，
我們發(fā)現層數較多的石墨烯需要更長(cháng)的處理時(shí)間才能達到氫化的目的。
展現了氫化反應的復雜性，這些影響的因素是在對石墨烯進(jìn)
行化學(xué)修飾(chemical functionaliztion)時(shí)不可忽略的
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