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本文標題:"金屬晶粒邊界晶粒生長(cháng)金相分析顯微鏡"

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金屬晶粒邊界晶粒生長(cháng)金相分析顯微鏡

 
   一種替代上述的說(shuō)法是金屬中間相的加速形成是某些物質(zhì)的擴
散能力增強造成的,多數情況下是銅。這種增強可能是由于空位和
空隙濃度分別超過(guò)它們各自的平衡值,造成擴散速率隨空位和空隙
成比例增加。實(shí)際上,對受輻射材料進(jìn)行的大量實(shí)驗和廣泛的理論
研究表明,在離子輻射下原子遷移量可以提高幾個(gè)數量級。盡管這
種可能性相當吸引人,但它并不現實(shí),因為很難想象相對較低密度
的電流能夠像受輻射的材料一樣,使空位和空隙密度產(chǎn)生顯著(zhù)變化
。
    另一種可能的機理是加速擴散是通過(guò)短路擴散路徑發(fā)生的,而
不是通過(guò)晶格。這種短路擴散路徑被稱(chēng)作“管道擴散”,可能是位
錯、晶界、或二次晶界形成的。人們發(fā)現,沿著(zhù)這些路徑的擴散比
同種物質(zhì)沿晶格的擴散要快得多(很多個(gè)數量級)。
    如果“管道擴散”就是這一工作機理,那么從金屬中間相的產(chǎn)
生和生長(cháng)的動(dòng)力性能可以得出結論,諸如銅這類(lèi)擴散材料的遷移率
在電場(chǎng)作用下比在一定溫度梯度的熱場(chǎng)作用下大得多。因此有理由
相信,所加電場(chǎng)和晶格缺陷(尤其是位錯和晶粒邊界)之間的相互作
用,增強了擴散物質(zhì)沿短路擴散路徑的遷移,加速了金屬中間相的
生成。由于電連接在電流作用下應是穩定的,因此電流對金屬中間
相產(chǎn)生和生長(cháng)的影響理應受到更多的重視。
    雙金屬連接中電流對金屬中間相的產(chǎn)生和生長(cháng)影響的確切特性
還需要進(jìn)一步的研究來(lái)闡明。這是有特殊意義的,因為有證據表明
蠕變、應力松弛、流動(dòng)應力以及再結晶、恢復再生和晶粒生長(cháng)等力
學(xué)性能,可能被明顯改變,電流的作用也可能使結構組織發(fā)生變化

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